მაღალი სისუფთავის ელემენტები და ნაერთები
როგორც სპეციალიზებული მასალების მიმწოდებელი, Western Minmetals (SC) Corporation WMC მიჩვეულია ფართო სპექტრის მიწოდებასმაღალი სისუფთავის ელემენტები, ოქსიდებიდანაერთებიერთიანად, ღეროს, გრანულის, ფხვნილის, ფურცლის, მავთულის და ღეროს და ა.შ. დაფუძნებული მასალების II-VI ოჯახების პერიოდულ სისტემაში, მათ შორისანტიმონი, დარიშხანი, კადმიუმი, ინდიუმი, სელენი, გოგირდის, ტელურიუმი, Ქილა, თუთია, ბისმუტის ტრიოქსიდი, ტელურიუმის ოქსიდი, ინდიუმის ტრიოქსიდი, გალიუმის ტრიოქსიდი, კადმიუმის ტელურიდი CdTe, კადმიუმის თუთია ტელურიდი CdZnTe CZT, კადმიუმის მანგანუმის ტელურიდი CdMnTe CMT, კადმიუმის სულფიდის CdSდა ა.შ.
ჩვენ გვაქვს გამოცდილება ლითონების, ოქსიდების და ნაერთების 4N, 5N, 6N და 7N სიწმინდის მომზადებისა და გაწმენდის შემუშავებაში და სპეციალიზაციაში, ელექტროლიზის, დისტილაციის, ზონაში მცურავი და დივერსიფიცირებული მნიშვნელოვანი სინთეზისა და კრისტალების ზრდის სხვადასხვა მეთოდით, როგორიცაა მაღალი წნევის ვერტიკალური Bridgman. HPVB, დაბალი წნევის LPB, ვერტიკალური მოდიფიცირებული Bridgman VB, ჰორიზონტალური მოდიფიცირებული Bridgman HB, ფიზიკური ორთქლის დეპონირება PVD, ქიმიური ორთქლის დეპონირების CVD მეთოდები და მოგზაურობის გამათბობლის მეთოდი THM და ა.შ. თერმოელექტრული კრისტალები, ერთკრისტალების ზრდა, ელექტროოპტიკა, ფუნდამენტური მასალების კვლევა,ინფრაწითელი გამოსახულებახილული და ახლო IR ლაზერები, რენტგენისა და გამა სხივების გამოვლენა, პერსპექტიული ფოტორეფრაქციული მასალა, ელექტროოპტიკური მოდულატორი, ტერაჰერცის გენერირებისა და გამოსხივების დეტექტორი მიკროელექტრონული, როგორც სუბსტრატის მასალა ეპიტაქსიალური ზრდისთვის, ვაკუუმური აორთქლების წყაროები და ატომური დაფრქვევის სამიზნეები და ა.შ.
ყველა მასალა კვალიფიცირებულია უახლესი ტექნოლოგიით რამდენიმე ანალიტიკური ტექნიკით, რომლებიც გამოიყენება ხარისხის კონტროლისთვის მიკროსტრუქტურისა და შესრულების შესწავლაში, როგორიცაა ფოტოლუმინესცენცია PL, ინფრაწითელი IR გადაცემის მიკროსკოპია, სკანირების ელექტრონული მიკროსკოპია SEM და რენტგენის დიფრაქციული XRD, ICP-MS და GDMS ინსტრუმენტები და ა.შ.
ჩვენი მიზანია ვიყოთ თანმიმდევრული, საიმედო და ხელმისაწვდომი წყარო თქვენი მატერიალური მოთხოვნებისთვის ნებისმიერ დროს.
