სილიციუმის ოქსიდი

აღწერა

სილიციუმის ოქსიდი SiO₂,ასევე ცნობილია, როგორც სილიციუმის დიოქსიდი, სილიციუმი და კვარცი, თეთრი და უსუნო ფხვნილი, CAS No.7631-86-9, დნობის წერტილი 1710°C, სიმკვრივე 2.2-2.6გ/მლ, წყალში ცუდად ხსნადი, არის ერთგვარი დაბალი ინდექსი. მასალა უფრო ფართოდ გამოიყენება, ვიდრე ნებისმიერი სხვა კრისტალური ნაერთი.მაღალი სისუფთავის სილიციუმის ოქსიდი SiO₂ გაწმენდილია 5N 99,999% მიკრონის ფხვნილამდე, რომელიც სტაბილურია ქიმიურ ბუნებაში.ნანო ნაწილაკების სილიციუმის ოქსიდი SiO₂ 7 ნმ და 20 ნმ ზომის 99.9% არის თეთრი ამორფული უგემოვნო, დაბინძურებისგან თავისუფალი სფერული ფხვნილი, რომელსაც აქვს მრავალი განსაკუთრებული მახასიათებელი, როგორიცაა კვანტური ზომის ეფექტი, ზედაპირის ეფექტი, მაკრო-კვანტური გვირაბის ეფექტი.სილიციუმის ოქსიდი SiO₂Western Minmetals (SC) Corporation-ში შეიძლება მიწოდებული იყოს -200+500 mesh ქვემიკრონული ფხვნილის ზომით და 7 ნმ ან 20 ნმ ნანო ფხვნილით 25 კგ-იან შეფუთვაში მუყაოს ბარაბანი პლასტიკური ჩანთით შიგნით, ან მორგებული სპეციფიკაციით სრულყოფილი გადაწყვეტილებებისთვის.

აპლიკაციები

მაღალი სისუფთავის სილიციუმის ოქსიდი SiO₂ან სილიციუმის დიოქსიდი ან კვარცი, 99,999% სისუფთავის მიკრონის ფხვნილი, ძირითადად გამოიყენება ოპტიკური მინის, კვარცის მინის, ოპტიკური ბოჭკოების სატელეკომუნიკაციო, ოპტიკური ხელსაწყოების, ცოხრალსკის ჭურჭლის, კვარცის დანადგარების ნაწილების, ოპტიკური საფარის და თხელი ფირის საფარის მასალების, ელექტრონული კომპონენტების, საპოხი მასალების დასამზადებლად, ადჰეზიის საწინააღმდეგო აგენტები და ქაფის გამწმენდი საშუალება და ა.შ. SiO₂ასევე შეიძლება გამოყენებულ იქნას ლაზერული სარკეების, არეკვლის საწინააღმდეგო საფარის, სხივის გამყოფებისა და თხელი ფენის კონდენსატორების მრავალ ფენებში.ნანო ნაწილაკების სილიციუმის ოქსიდი SiO₂99.9% არის კატალიზატორის, ფილტრების, მედიკამენტების, ელექტრონული პაკეტის მასალის, მაგნიტური საშუალების, ბოჭკოვანი გამაგრებული კომპოზიტის, კერამიკის, კოსმეტიკური საშუალებების, ანტიბაქტერიული მასალების დასამზადებლად და ა.შ.

გამოკითხვა ახლა

დეტალები

ტეგები

Ტექნიკური სპეციფიკაცია

SiO₂

გარეგნობა	კრისტალი
Მოლეკულური წონა	60.08
სიმჭიდროვე	2,648 გ/სმ³
დნობის წერტილი	1600-1725 °C
CAS No.	7631-86-9

არა.	ელემენტი		სტანდარტული სპეციფიკაცია
1	სისუფთავე SiO₂≥		უწმინდურება(PCT ან PPM მაქს თითოეული)
2	3N	99.9%	Ca/Mg/Na/Cu/Mn/Co/Pb/N/S 0,001, Fe/Ni/K 0,002	PCT %
	5N	99.999%	Cr/Mn/Co/Sn/Na/Ni/Cu/V 0.5, Al/Fe/Pb/Ti/Mg 1.0	სულ ≤10
3	ზომა		7nm, 20nm ფხვნილი 3N სიწმინდისთვის, -200+500meah ფხვნილი 5N სიწმინდისთვის
4	შეფუთვა		25 კგ ნაქსოვი ჩანთაში ან მუყაოს ბარაბანი პლასტიკური ჩანთა შიგნით

მაღალი სისუფთავის სილიციუმის ოქსიდი SiO₂99,999% 5N და ნანო ნაწილაკების სილიციუმის ოქსიდი SiO₂Western Minmetals (SC) Corporation-ში 99.9% 3N შეიძლება მიწოდებული იყოს ზომით -200+500 mesh ქვემიკრონის ფხვნილი და 7 ნმ ან 20 ნმ ნანო ფხვნილი 25 კგ შეფუთვაში ნაქსოვი ჩანთაში ან მუყაოს ბარაბანი პლასტიკური ჩანთით, ან მორგებული სპეციფიკაციის მიხედვით სრულყოფილი გადაწყვეტილებები.

მაღალი სისუფთავის სილიციუმის ოქსიდი SiO₂ან სილიციუმის დიოქსიდი ან კვარცი, 99,999% 5N სიწმინდის მიკრონის ფხვნილი, ძირითადად გამოიყენება ოპტიკური მინის, კვარცის მინის, ოპტიკური ბოჭკოების სატელეკომუნიკაციო, ოპტიკური ხელსაწყოების, ცოხრალსკის ჭურჭლის, კვარცის დანადგარების ნაწილების, ოპტიკური საფარის და თხელი ფირის საფარის მასალების, ელექტრონული კომპონენტების, საპოხი მასალების დასამზადებლად. , ადჰეზიის საწინააღმდეგო აგენტები და ქაფის გამწმენდი საშუალება და ა.შ. SiO₂ასევე შეიძლება გამოყენებულ იქნას ლაზერული სარკეების, არეკვლის საწინააღმდეგო საფარის, ფილტრების, სხივის გამყოფებისა და თხელფილიანი კონდენსატორების მრავალ ფენებში.ნანო ნაწილაკების სილიციუმის ოქსიდი SiO₂99.9% წთ, ნანო ნაწილაკების ხარისხი, განკუთვნილია კატალიზატორის, ფილტრების, მედიკამენტების, ელექტრონული პაკეტის მასალის, მაგნიტური საშუალების, ბოჭკოვანი გამაგრებული კომპოზიტის, კერამიკის, კოსმეტიკური საშუალებების, ანტიბაქტერიული მასალების და პიგმენტის დასამზადებლად.